目前，我国半导体光刻胶国产化率水平较低，尤其是高端光刻胶领域，KrF、ArF光刻
目前，我国半导体光刻胶国产化率水平较低，尤其是高端光刻胶领域，KrF、ArF光刻胶的国产化率均不足10%。
不过，随着国产光刻胶技术的不断突破，此前国产化率低的劣势反而成了国产替代空间大的优势。
这样一来，像彤程新材、南大光电、华懋科技、晶瑞电材这些掌握光刻胶技术、加速推动国产替代的企业，将有望迎来高速发展。
不过，随着国产光刻胶技术的不断突破，此前国产化率低的劣势反而成了国产替代空间大的优势。
这样一来，像彤程新材、南大光电、华懋科技、晶瑞电材这些掌握光刻胶技术、加速推动国产替代的企业，将有望迎来高速发展。
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