TMA(偏苯三酸酐)材料可以用来制作光刻胶1。TMAH(TMA的氢氧化物)在半导
TMA(偏苯三酸酐)材料可以用来制作光刻胶1。TMAH(TMA的氢氧化物)在半导体制造工艺中,尤其是光刻工艺中,被广泛用于开发光刻胶材料2。然而,需要注意的是,TMAH具有高毒性,处理过程中存在环境和健康风险,例如皮肤灼伤和呼吸问题,因此在使用和处理TMAH时需要采取适当的安全措施
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