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发表于 2024-08-05 00:06:26 东方财富Android版 发布于 江西
可以可以
发表于 2024-08-04 23:16:41 发布于 江西

中国科技的自主可控时代已经到来,这一变革在光刻机领域尤为显著。ASML曾对中国自主研发光刻机的能力持怀疑态度,但如今,中国正以惊人的速度证明这一怀疑是错误的。

三年前,中国光刻机自给率不足8%,高端设备几乎全部依赖进口,这不仅限制了中国芯片产业的发展,也增加了经济负担。然而,中国芯片业深刻认识到自主可控的重要性,并迅速展开技术攻坚战。

自2018年ArF浸没式光刻机成功推出以来,中国在光刻机技术上取得了显著进步。2022年,中国实现了28纳米芯片的量产,这是中国芯片制造能力的重要里程碑。紧接着,第三代半导体光刻机通过工艺验证,标志着中国在半导体制造领域的又一重大突破。

2024年,中国科研人员在中关村论坛年会上展示了转角氮化硼光学晶体原创理论与材料,这一创新成果为光刻机的制造提供了全新的途径,进一步推动了中国光刻机技术的发展。

这一成就不仅展示了中国在高科技领域的自主创新能力,也激发了国民对科技自主发展的自豪感。中国科技正以坚定的步伐,迈向一个更加自主可控的未来,这不仅是技术的突破,更是国家战略的实现。

东材科技

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赛微电子

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联合光电

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普利特

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(来源:独立的兰齐2的财富号 2024-08-04 23:16) [点击查看原文]

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