中微公司尹志尧:有信心开发出更具竞争力的刻蚀、薄膜、外延和电子束检测设备
来源:每日经济新闻
8月2日,中微公司(688012.SH,股价158.6元,市值985.39亿元)迎来成立20周年纪念日,并于临港产业化基地举行“20周年盛会华章暨临港基地落成庆典”。
中微公司董事长、总经理尹志尧
中微公司董事长、总经理尹志尧在致辞中表示:“中微的MOCVD(金属有机化合物化学气相沉积)设备已经在全球碳化镓基LED(发光二极管)设备市场取得优势地位。最近两年开发的LPCVD(低压化学气相沉积)设备顺利进入了市场,一年左右我们得到了大量订单。”
尹志尧称:“为了尽快实现赶超,我们正在启动运行二十多个设备的开发项目。我们有信心,在将来开发出更具竞争力的刻蚀设备、薄膜设备、外延EPI(在衬底上生长出的半导体薄膜)设备和电子束检测设备。”
据悉,在集成电路产业飞速发展的浪潮中,中微公司以高端半导体设备为核心,坚持技术的创新、产品的差异化和知识产权的保护,不断开发具有市场竞争力的设备;同时,中微公司将整合产业链上下游和相关资源作为另一发力点,积极考虑投资和并购,推动公司更快发展。预计未来五到十年,中微公司将通过自主研发以及携手行业合作伙伴,覆盖集成电路关键领域50%至60%的设备。
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