半导体相关国产替代：1.刻蚀设备：中微公司、北方华创、屹唐股份。2.涂胶显影：蕊
半导体相关国产替代：
1. 刻蚀设备：中微公司、北方华创、屹唐股份。
2. 涂胶显影：蕊源微。
3. 薄膜沉积设备： 拓荆科技、北方华创、盛美上海。
4. 热处理：北方华创。
5. 光刻机：上海微电子。
6. 量测设备：中科飞测、精测电子。
7. 离子注入：万业企业。
8. 化学机械抛光：华海清科。
9. 清洗设备：盛美上海、捷佳纬创。
注：根据手机图片抄录仅供参考。
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