中芯国际和华为的N+2(多重曝光)芯片制作工艺需要大量光刻胶,掩模版,以及清洗次数!对公司带来哪些潜在利润
国林科技:
尊敬的投资者,您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程,相关工艺材料的增量增加,必然导致对于清洗设备的需求增加。公司将致力于产品研发,努力开拓相关市场,提升公司业绩。感谢您的关注。
尊敬的投资者,您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程,相关工艺材料的增量增加,必然导致对于清洗设备的需求增加。公司将致力于产品研发,努力开拓相关市场,提升公司业绩。感谢您的关注。
(来自 深交所互动易)
答复时间 2024-11-28 11:30:11
郑重声明:用户在财富号/股吧/博客等社区发表的所有信息(包括但不限于文字、视频、音频、数据及图表)仅代表个人观点,与本网站立场无关,不对您构成任何投资建议,据此操作风险自担。请勿相信代客理财、免费荐股和炒股培训等宣传内容,远离非法证券活动。请勿添加发言用户的手机号码、公众号、微博、微信及QQ等信息,谨防上当受骗!
评论该主题
帖子不见了!怎么办?作者:您目前是匿名发表 登录 | 5秒注册 作者:,欢迎留言 退出发表新主题
郑重声明:用户在社区发表的所有资料、言论等仅代表个人观点,与本网站立场无关,不对您构成任何投资建议。用户应基于自己的独立判断,自行决定证券投资并承担相应风险。《东方财富社区管理规定》