请问目前ald的两种路径,一种是水蒸气作为氧源,一种是臭氧作为氧源,均为与tma前驱体反应实现薄膜沉积。目前主流传统是采取水蒸气方式。请问公司所采取的臭氧路径相较于水蒸气,有何优势?
国林科技:
尊敬的投资者,您好。臭氧应用于ALD先进制程相较水蒸气优势在于:薄膜纯度更高、杂质更少,致密度与均匀性更佳;低温适配性强,能渗透复杂 3D 结构,且反应副产物无污染,可提升器件性能与生产效率,适配先进制程需求。感谢您的关注。
尊敬的投资者,您好。臭氧应用于ALD先进制程相较水蒸气优势在于:薄膜纯度更高、杂质更少,致密度与均匀性更佳;低温适配性强,能渗透复杂 3D 结构,且反应副产物无污染,可提升器件性能与生产效率,适配先进制程需求。感谢您的关注。
(来自 深交所互动易)
答复时间 2025-12-17 08:47:10
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