请问公司的光刻机设备,未来会达到14纳米的精度吗?
芯碁微装:
尊敬的投资者您好!公司是基于DMD(数字微镜器件)的直写光刻技术,DMD芯片的精度决定了产品精度,提升产品精度上首选方案是采用精度更高的DMD,目前市场能够量产的DMD最高精度在5.4μm,这种精度的产能已远超传统曝光机。如果要更精细的线宽,就要采用微透镜阵列(MLA)来升级,这种方式对于直写光刻技术升级和改造发展贡献会很大,量产后产能效率将大幅提升,产业应用范围将非常广阔,感谢关注!
尊敬的投资者您好!公司是基于DMD(数字微镜器件)的直写光刻技术,DMD芯片的精度决定了产品精度,提升产品精度上首选方案是采用精度更高的DMD,目前市场能够量产的DMD最高精度在5.4μm,这种精度的产能已远超传统曝光机。如果要更精细的线宽,就要采用微透镜阵列(MLA)来升级,这种方式对于直写光刻技术升级和改造发展贡献会很大,量产后产能效率将大幅提升,产业应用范围将非常广阔,感谢关注!
(来自 上证e互动)
答复时间 2024-12-05 16:04:00
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